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晶圓測試與芯片測試有什么不同?

發(fā)布時間:2024-08-19作者來源:薩科微瀏覽:999

從測試作業(yè)的精細程度和作業(yè)用人數(shù)量看,晶圓測試(CP)屬于“晶圓級”工藝,數(shù)千顆甚至數(shù)萬顆裸芯片高度集成于一張晶圓上,對測試作業(yè)的潔凈等級、作業(yè)的精細程度、大數(shù)據(jù)的分析能力等要求較高,因此技術(shù)實力較強的測試廠商通過精益生產(chǎn)能夠?qū)崿F(xiàn)更好的效益,拉開與其他對手的差距。


圖片

圖:CP和FT測試流程


而芯片成品測試(FT)屬于“芯片級”工藝,芯片成品完成封裝之后,處于良好的保護狀態(tài),物理尺寸體積也較晶圓狀態(tài)的裸芯片增加幾倍至數(shù)十倍,因此芯片成品測試對潔凈等級和作業(yè)精細程度的要求較晶圓測試低一個級別,測試作業(yè)工作量和人員用工量也更大。

從具體的測試工藝難點看,兩者擁有不同的技術(shù)難點和挑戰(zhàn)。在晶圓測試方面,受探針卡自身物理結(jié)構(gòu)和電特性的限制,晶圓測試更容易受到干擾,高速信號的信號完整性控制的難度較高不好,在測試方案開發(fā)和量產(chǎn)測試過程中需要更精密的治具硬件和更高要求的環(huán)境條件,因此,晶圓測試需要高效率的測試,其測試項目以直流測試、低速功能測試為主,追求[敏感詞]的高同測,難點為在方案設計時需盡可能提高同測數(shù)、提高并測效率、保證一致性和穩(wěn)定性、高同測的探針卡設計等方面。

在芯片成品測試方面,芯片成品測試一般是全模塊全覆蓋測試,其難點為:大電流項目的功耗控制、提高治具設計的熱量冗余;減少高速測試項目的信號反射、保證信號完整性;射頻測試項目設計的阻抗匹配、減少干擾;精確測量高精度測試項目等,上面都涉及到測試方法設計、治具設計、測試板設計、測試程序開發(fā)等方面的綜合性技術(shù)。


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