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發(fā)布時(shí)間:2024-09-19作者來源:薩科微瀏覽:1258
晶圓上留下的平邊(flat)或凹槽(notch)主要用于幫助在制造和處理過程中確定晶圓的類型、摻雜和晶向等信息。
1. 晶圓的晶向識(shí)別
硅晶圓是由單晶硅錠通過切片制成的,硅晶錠的晶向(晶體結(jié)構(gòu)排列的方向)對(duì)于半導(dǎo)體器件的性能和加工工藝非常重要。
晶向包括常見的(100)、(110)和(111)晶向,不同晶向的硅表面有不同的物理和化學(xué)性質(zhì),對(duì)器件的電性能和蝕刻工藝會(huì)產(chǎn)生不同的影響。因此,在加工過程中必須確保晶向的正確識(shí)別。
平邊(flat)或凹槽(notch)就是用來指示晶向的。通過這些標(biāo)識(shí),可以快速確定晶圓的具體晶向,從而指導(dǎo)后續(xù)的晶圓加工操作。
2. 摻雜類型的識(shí)別
半導(dǎo)體制造過程中,硅晶圓可以通過摻雜不同的元素(如硼、磷等)來形成p型或n型導(dǎo)電類型。p型硅晶圓摻入的是三價(jià)元素(如硼),而n型晶圓摻入的是五價(jià)元素(如磷)。
平邊(flat)不僅指示晶向,還提供了摻雜類型的信息。通過flat的相對(duì)位置和形狀,工藝人員可以立即識(shí)別晶圓的導(dǎo)電類型(p型或n型),從而避免使用錯(cuò)誤類型的晶圓進(jìn)行器件制造。
3. 機(jī)械對(duì)準(zhǔn)的便捷性
晶圓在制造的多個(gè)環(huán)節(jié)中需要進(jìn)行定位和對(duì)準(zhǔn),如光刻、蝕刻、摻雜等。在這些工藝中,需要精確定位晶圓的方向,確保每一步工藝都與前一步保持一致性。
在2英寸到6英寸的晶圓上,使用平邊(flat)作為對(duì)準(zhǔn)參考點(diǎn),工藝設(shè)備可以方便地將晶圓放置到正確的位置。對(duì)于8英寸及以上的大尺寸晶圓,notch更為常見。notch更小,不占用晶圓的有效面積,并且現(xiàn)代自動(dòng)化設(shè)備可以更容易識(shí)別和處理notch。
4. 晶圓尺寸與標(biāo)識(shí)方式的關(guān)系
傳統(tǒng)上,2英寸到6英寸的晶圓主要使用flat,這種較大平邊的標(biāo)識(shí)方便手動(dòng)和半自動(dòng)的設(shè)備進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)和識(shí)別。平邊提供了足夠大的視覺參考,便于手工操作。
而8英寸及以上的晶圓由于其尺寸較大,平邊會(huì)占據(jù)較多的有效制造區(qū)域。notch的引入解決了這個(gè)問題:它僅在晶圓的邊緣留有一個(gè)很小的凹槽,既保留了標(biāo)識(shí)功能,又[敏感詞]限度地提高了晶圓的有效面積利用率。
5. 可根據(jù)客戶需求定制
雖然一般情況下8英寸及以上晶圓使用notch,8英寸以下晶圓使用flat,但根據(jù)客戶的需求,也可以對(duì)標(biāo)識(shí)方式進(jìn)行定制。例如,一些客戶可能要求8英寸晶圓依然使用flat來滿足特定設(shè)備或工藝的需求。SEMI對(duì)wafer的標(biāo)準(zhǔn)如下:
平邊(flat)和凹槽(notch)的主要作用是提供晶圓的晶向和摻雜信息,同時(shí)幫助設(shè)備對(duì)準(zhǔn)晶圓。在小尺寸晶圓中,flat方便手動(dòng)操作,而在大尺寸晶圓中,notch能有效節(jié)省制造面積,并且與現(xiàn)代自動(dòng)化設(shè)備更匹配。這些設(shè)計(jì)確保了晶圓加工過程的精確性和效率,同時(shí)我們一看晶圓就知道一些晶體的基本信息。
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