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發(fā)布時(shí)間:2022-07-25作者來(lái)源:薩科微瀏覽:6976
首先,要和大家說聲抱歉:之前我發(fā)布的離子注入設(shè)備供應(yīng)商數(shù)據(jù)里被行業(yè)朋友指出不少錯(cuò)誤,有可能對(duì)其他人產(chǎn)生誤導(dǎo),所以我總結(jié)多個(gè)來(lái)源的反饋,重新整理了這個(gè)表格,供大家參考
其實(shí)半導(dǎo)體用離子注入設(shè)備的應(yīng)用細(xì)分還有很多。比如:
低能大束流里還分重金屬、超低溫和標(biāo)準(zhǔn)等多種機(jī)型;
用于SiC器件制造的高溫注入設(shè)備其實(shí)也分大束流、中束流、高能這幾種;
另外,注入設(shè)備在SOI襯底制造中還有注氫注氧等特殊細(xì)分應(yīng)用
這些信息由于過于詳細(xì),我暫時(shí)還無(wú)法一一細(xì)致整理,希望以后有機(jī)會(huì)梳理后再和大家分享探討
注)表內(nèi)SHELLBACK就是原來(lái)的OEM GROUP
免責(zé)聲明:本文采摘自半導(dǎo)體綜研,本文僅代表作者個(gè)人觀點(diǎn),不代表薩科微及行業(yè)觀點(diǎn),只為轉(zhuǎn)載與分享,支持保護(hù)知識(shí)產(chǎn)權(quán),轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明原出處及作者,如有侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)系我們刪除。
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