當(dāng)?shù)貢r(shí)間3月8日，荷蘭光刻機(jī)大廠ASML通過(guò)官網(wǎng)發(fā)布了《關(guān)于額外出口管制的聲明》稱(chēng)，荷蘭政府于當(dāng)天發(fā)布了有關(guān)即將對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備出口進(jìn)行限制的更多信息。這些新的出口管制側(cè)重于先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括[敏感詞]的沉積和部分浸沒(méi)式光刻設(shè)備。

ASML強(qiáng)調(diào)，荷蘭政府新出臺(tái)的額外的出口管制并不涉及所有浸沒(méi)式光刻設(shè)備，而只涉及所謂的“[敏感詞]”設(shè)備。

盡管ASML尚未收到有關(guān)“[敏感詞]”確切定義的任何其他信息，但ASML將其解釋為“關(guān)鍵浸沒(méi)式光刻設(shè)備”，ASML將其定義為T(mén)WINSCAN NXT：2000i及之后的浸沒(méi)式光刻系統(tǒng)。

ASML指出，主要關(guān)注成熟節(jié)點(diǎn)的客戶(hù)可以繼續(xù)使用不太先進(jìn)的浸沒(méi)式光刻工具。

ASML預(yù)計(jì)，新出臺(tái)的額外的出口管制措施并不會(huì)對(duì)其此前發(fā)布的2023財(cái)年的財(cái)務(wù)展望或去年底投資日上宣布的長(zhǎng)期愿景產(chǎn)生重大影響。

荷蘭新規(guī)影響究竟有多大？

早在今年1月底，就有爆料稱(chēng)，美國(guó)已與荷蘭和日本達(dá)成協(xié)議，限制向中國(guó)出口一些先進(jìn)的芯片制造設(shè)備。該協(xié)議將把美國(guó) 10 月份通過(guò)的一些出口管制擴(kuò)大到這兩個(gè)盟國(guó)的公司，包括 ASML Holding NV、Nikon Corp和 Tokyo Electron Ltd.等。

2月初據(jù)路透社報(bào)道，美商務(wù)部副部長(zhǎng)Don Graves于當(dāng)?shù)貢r(shí)間周二在華盛頓一個(gè)活動(dòng)期間證實(shí)，美國(guó)已與日本和荷蘭達(dá)成了對(duì)華半導(dǎo)體出口管制協(xié)議。但是日本和荷蘭政府之后并未迅速出臺(tái)具體的細(xì)則，也使得外界猜測(cè)不斷。

此前外界預(yù)期，荷蘭政府將在限制ASML向中國(guó)出口EUV（極紫外光）光刻機(jī)的基礎(chǔ)上，再度限制部分浸沒(méi)式光刻機(jī)（屬于DUV光刻機(jī)）的出口，主要是限制先進(jìn)制程芯片的制造。

所謂浸沒(méi)式光刻機(jī)，屬于193nm（光源）光刻機(jī)（分為干式和浸沒(méi)式），可以被用于16nm至7nm先進(jìn)制程芯片的制造，但是目前也有被業(yè)界廣泛應(yīng)用在45nm及以下的成熟制程當(dāng)中。目前全球僅有ASML和尼康兩家公司生產(chǎn)。由于美國(guó)的主要目標(biāo)是限制中國(guó)的先進(jìn)制程芯片制造能力，因此，業(yè)界普遍預(yù)期荷蘭政府的即將出臺(tái)的新的限制將會(huì)主要針對(duì)中高端型號(hào)的浸沒(méi)式光刻機(jī)，主要用于成熟制程的浸沒(méi)式光刻機(jī)將不會(huì)受到限制。

隨著ASML[敏感詞]聲明的公布，也意味著外界的猜測(cè)基本正確。

目前ASML在售的浸沒(méi)式光刻機(jī)主要有三大型號(hào)：TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i 和TWINSCAN NXT:1980Di。根據(jù)ASML的解讀，其TWINSCAN NXT:2000i及之后的浸沒(méi)式光刻系統(tǒng)將會(huì)受到出口限制。這也意味著，TWINSCAN NXT:1980Di 仍將可以出口。

根據(jù)ASML官網(wǎng)的介紹，TWINSCAN NXT:1980Di 的分辨率可以達(dá)到≤38nm，每小時(shí)可以生產(chǎn)275片晶圓。

據(jù)芯智訊了解，NXT:1980Di 雖然分辨率在38nm左右，但是通過(guò)多重曝光，依然可以支持到7nm左右。只不過(guò)，這樣步驟更為復(fù)雜，成本更高，良率可能也會(huì)有損失。據(jù)說(shuō)臺(tái)積電的[敏感詞]代7nm工藝也是基于 NXT:1980Di 實(shí)現(xiàn)的。

不過(guò)，目前NXT:1980Di 更多還是被用于45nm以下成熟制程的生產(chǎn)。資料也顯示，2018年，長(zhǎng)江存儲(chǔ)和華力二期（華虹六廠）訂購(gòu)的NXT:1980Di 成功進(jìn)廠安裝，支持了兩家晶圓廠的生產(chǎn)。

ASML于2018年下半年正式出貨的更為先進(jìn)的浸潤(rùn)式光刻機(jī)NXT:2000i 通過(guò)多重曝光則可以支持到7nm及5nm制程工藝需求。2018年12月，ASML NXT2000i 首次進(jìn)入中國(guó)，正式搬入SK海力士位于無(wú)錫的工廠。

據(jù)說(shuō)更先進(jìn)的NXT:2050i型光刻機(jī)也有進(jìn)入中國(guó)，不過(guò)具體哪些廠商有采用并不清楚。去年ASML就曾表示，除EUV光刻機(jī)之外的所有機(jī)型都可以向中國(guó)正常出貨。

總結(jié)來(lái)說(shuō)，此次荷蘭政府出臺(tái)的關(guān)于ASML部分浸沒(méi)式光刻機(jī)的限制基本符合之前的預(yù)期，雖然NXT:2050i和NXT:2000i受限，但是NXT:1980Di 依然是可以出口到中國(guó)，目前國(guó)內(nèi)大量采用NXT:1980Di 進(jìn)行成熟制程制造的晶圓廠將不會(huì)受到影響。此外，如果國(guó)內(nèi)想要繼續(xù)發(fā)展先進(jìn)制程，也依然是可以通過(guò)NXT:1980Di 來(lái)進(jìn)行，只不過(guò)成本、良率都要差一些，難有市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。

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