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IGBT芯片簡史(一)

發(fā)布時(shí)間:2022-03-18作者來源:薩科微瀏覽:1696

話說公元2018年,IGBT江湖驚現(xiàn)第六代和第七代的[敏感詞],一時(shí)風(fēng)頭無兩,各路吃瓜群眾紛紛猜測二位英雄的出身來歷。不禁有好事者梳理了一下英家這些年,獨(dú)領(lǐng)風(fēng)騷的數(shù)代當(dāng)家[敏感詞],分別是:


   


呃,好像分不清這都誰是誰?


   

呃,雖然這些IGBT“[敏感詞]”表面看起來都一樣,但都是悶騷型的。只能脫了衣服,做個(gè)“芯”臟手術(shù)。。。


像這樣,在芯片上,橫著切一刀看看。


   


好像,有點(diǎn)不一樣了。。。


故事,就從這兒說起吧。。。


   


史前時(shí)代-PT


   


PT是最初代的IGBT,它使用重?fù)诫s的P+襯底作為起始層,在此之上依次生長N+ buffer,N- base外延,最后在外延層表面形成元胞結(jié)構(gòu)。它因?yàn)榻刂箷r(shí)電場貫穿整個(gè)N-base區(qū)而得名。它工藝復(fù)雜,成本高,而且需要載流子壽命控制,飽和壓降呈負(fù)溫度系數(shù),不利于并聯(lián),雖然在上世紀(jì)80年代一度呼風(fēng)喚雨,但在80年代后期逐漸被NPT取代,目前已歸隱江湖,不問世事,英飛凌目前所有的IGBT產(chǎn)品均不使用PT技術(shù)。


初代盟主-IGBT2


   


特征:

平面柵,非穿通結(jié)構(gòu)(NPT)


NPT-IGBT于1987年出山,很快在90年代成為江湖霸主。NPT與PT不同在于,它使用低摻雜的N-襯底作為起始層,先在N-漂移區(qū)的正面做成MOS結(jié)構(gòu),然后用研磨減薄工藝從背面減薄到 IGBT 電壓規(guī)格需要的厚度,再從背面用離子注入工藝形成P+ collector。在截止時(shí)電場沒有貫穿N-漂移區(qū),因此稱為“非穿通”型IGBT。NPT不需要載流子壽命控制,但它的缺點(diǎn)在于,如果需要更高的電壓阻斷能力,勢必需要電阻率更高且更厚的N-漂移層,這意味著飽和導(dǎo)通電壓Vce(sat)也會(huì)隨之上升,從而大幅增加器件的損耗與溫升。


技能:

低飽和壓降,正溫度系數(shù),

125℃工作結(jié)溫,高魯棒性


因?yàn)镹-漂移區(qū)厚度大大降低了,因此Vce(sat)相比PT大大減少。正溫度系數(shù),利于并聯(lián)。


名號(hào):

DLC,KF2C,S4…


等等,好像混進(jìn)了什么奇怪的東西!


沒寫錯(cuò)!S4真的不是IGBT4,它是根正苗紅的IGBT2,適用于高頻開關(guān)應(yīng)用,硬開關(guān)工作頻率可達(dá)40kHz。這一明星產(chǎn)品,至今銷路仍然不錯(cuò)。


性能飛躍-IGBT3


   


特征:

溝槽柵,場截止(Field Stop)


IGBT3的出現(xiàn),又在IGBT江湖上掀起了一場巨大的變革。IGBT3的元胞結(jié)構(gòu)從平面型變成了溝槽型。溝槽型IGBT中,電子溝道垂直于硅片表面,消除了JFET結(jié)構(gòu),增加了表面溝道密度,提高近表面載流子濃度,從而使性能更加優(yōu)化。若想對(duì)平面柵與溝槽柵技術(shù)的區(qū)別有更多了解,可以參考我們之前發(fā)表過的文章“平面型與溝槽型IGBT結(jié)構(gòu)淺析”。


縱向結(jié)構(gòu)方面,為了緩解阻斷電壓與飽和壓降之間的矛盾,英家于2000年推出了Field Stop IGBT,目標(biāo)在于盡量減少漂移區(qū)厚度,從而降低飽和電壓。場截止(Field Stop)IGBT起始材料和NPT相同,都是低摻雜的N-襯底,不同在于FS IGBT背面多注入了一個(gè)N buffer層,它的摻雜濃度略高于N-襯底,因此可以迅速降低電場強(qiáng)度,使整體電場呈梯形,從而使所需的N-漂移區(qū)厚度大大減小。此外,N buffer還可以降低P發(fā)射極的發(fā)射效率,從而降低了關(guān)斷時(shí)的拖尾電流及損耗。若想了解更多NPT與場截止器件的區(qū)別,請(qǐng)前往 “PT,NPT,F(xiàn)S型IGBT的區(qū)別”了解更多詳情。


技能:

低導(dǎo)通壓降,

125℃工作結(jié)溫,

開關(guān)性能優(yōu)化


得益于場截止以及溝槽型元胞,IGBT3的通態(tài)壓降更低,典型的Vce(sat)從第2代的典型的3.4到第3代的2.55V(3300V為例)。


名號(hào):

T3,E3,L3


IGBT3在中低壓領(lǐng)域基本已經(jīng)被IGBT4取代,但在高壓領(lǐng)域依然占主導(dǎo)地位,比如3300V,4500V,6500V的主流產(chǎn)品仍然在使用IGBT3技術(shù)。


中流砥柱-IGBT4


   


IGBT4是目前使用最廣泛的IGBT芯片技術(shù),電壓包含600V,1200V,1700V,電流從10A到3600A,各種應(yīng)用中都可以見到它的身影。


特征:

溝槽柵+場截止+薄晶圓


IGBT3一樣,都是場截止+溝槽柵的結(jié)構(gòu),但IGBT4優(yōu)化了背面結(jié)構(gòu),漂移區(qū)厚度更薄,背面P發(fā)射極及N buffer的摻雜濃度及發(fā)射效率都有優(yōu)化。


技能:

高開關(guān)頻率,

優(yōu)化開關(guān)軟度,

150℃工作結(jié)溫


IGBT4通過使用薄晶圓及優(yōu)化背面結(jié)構(gòu),進(jìn)一步降低了開關(guān)損耗,同時(shí)開關(guān)軟度更高。同時(shí),[敏感詞]允許工作結(jié)溫從第3代的125℃提高到了150℃,這無疑能進(jìn)一步增加器件的輸出電流能力。


名號(hào):

T4,E4,P4


T4是小功率系列,開關(guān)頻率[敏感詞]20kHz。


E4適合中功率應(yīng)用,開關(guān)頻率[敏感詞]8kHz。


P4對(duì)開關(guān)軟度進(jìn)行了更進(jìn)一步優(yōu)化,更適合大功率應(yīng)用,開關(guān)頻率[敏感詞]3kHz。






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